Roll To Roll PVD Magnetron Sputtering
La tecnología roll to roll PVD Magnetron Sputtering (R2R) permite depositar capas delgadas con ausencia de gotas sobre sustratos continuos y flexibles. Desde los inicios de los recubrimientos PVD, este tipo de sustratos han sido un reto tanto técnico como económico. Esta tecnología permite la deposición de metales, óxidos metálicos y compuestos cerámicos sin la necesidad de abrir la cámara de vacío. La metalización sobre films o mallas poliméricas ha ido ganando interés industrial debido a que aportan nuevos cambios en sus propiedades y permiten nuevas aplicaciones generando nuevos nichos de mercado.

R2R está dedicada en gran parte a los materiales polímericos, metálicos y téxtiles ya que está especialmente diseñada para recubrir sustratos largos y flexibles como films, mallas o cintas. Ésta tecnología permite un preciso control de la tensión durante el proceso de deposición evitando la deformación o rotura del material.
CARACTERISTICAS ROLL-TO-ROLL
• Diseño de tambor hasta 20.000m/día (sobre film plástico)
• Substratos: metales, polímeros, téxtiles, etc.
• Ancho de banda: hasta 140mm
• Oxidos transparentes y conductores
• Metalización, Capas cerámicas
• Oxidos semiconductores
• Recubrimientos con alto porcentaje de Si, Ni, Cu