Roll to Roll PVD Magnetron Sputtering

A tecnologia Roll to Roll PVD Magnetron Sputtering (R2R) permite depositar camadas finas sem gotas sobre substratos contínuos e flexiveis. Desde o início dos revestimentos PVD, este tipo de substratos tem sido um desafio técnico e económico. Esta tecnologia permite a deposição de metais, óxidos de metais e compostos cerâmicos sem a necessidade de abrir a câmara de vácuo. A industrial, devido às novas aplicações que surgem no mercado.

R2R é em grande parte dedicado a compostos poliméricos, metálicos, materiais têxteis e é especialmente concebido para cobrir substratos longo e flexíveis, tais como filmes, malhas ou fitas. Esta tecnologia permite o controlo rigoroso da tensão durante o processo de deposição impedindo a deformação ou a rotura do material.

CARACTERÍSTICAS ROLL-TO-ROLL
• Desenho do tambor até 20.000m/dia (sobre filme plástico).
• Substratos: metais, polímeros, têxteis, etc.
• Largura da banda: até 140mm.
• Óxidos transparentes e condutores.
• Metalização, camadas cerâmicas.
• Óxidos semicondutores.
• Revestimentos com elevadas percentagens de Si, Ni, Cu.