Roll to Roll

Roll To Roll PVD Magnetron Sputtering
La tecnologia Roll to Roll PVD Magnetron Sputtering (R2R) permet depositar capes primes amb absència de gotes sobre substrats continus i flexibles. Des dels inicis dels recobriments PVD, aquest tipus de substrats han estat un repte tant tècnic com econòmic. Aquesta tecnologia permet la deposició de metalls, òxids metàl·lics i composts ceràmics sense la necessitat d’obrir la cambra de buit. La metal·lització sobre films o malles polimèriques ha anat guanyant interès industrial degut a que aporten nous canvis en les seves propietats i permeten noves aplicacions generant nous nínxols de mercat.

R2R està dedicada en gran part als materials polimèrics, metàl·lics i tèxtils ja que està especialment dissenyada per a recobrir substrats llargs i flexibles com films, malles o cintes. Aquesta tecnologia permet un precís control de la tensió durant el procés de deposició evitant la deformació o el trencament del material.

 

CARACTERÍSTIQUES ROLL-TO-ROLL
• Disseny de tambor fins a 20.000m/dia (sobre film plàstic)
• Substrats: metalls, polímers, tèxtils, etc.
• Ample de banda: fins a 140mm
• Òxids transparents i conductors
• Metal·lització, Capes ceràmiques
• Òxids semiconductors
• Recobriments amb alt percentatge de Si, Ni, Cu